霍尔槽(英文:Hull Cell) ,又称赫尔槽或哈氏槽。霍尔槽试验只需要少量镀液,经过短时间试验便能得到在较宽的电流密度范围内镀液的电镀效果。由于该试验对镀液组成及操作条件作用敏感,因此,常用来确定镀浓各组分的浓度以及pH值,确定获得良好镀层的电流密度范围,同时也常用于镀液的故障分析。因此,霍尔槽已成为电镀研究、电镀工艺控制不可缺少的工具。
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