真空蒸鍍,簡稱蒸鍍,是指在真空條件下,采用一定的加熱蒸發方式蒸發鍍膜材料(或稱膜料)並使之氣化,粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。蒸鍍是使用較早、用途較廣泛的氣相沉積技術,具有成膜方法簡單、薄膜純度和致密性高、膜結構和性能獨特等優點。
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